<p>快科技4月4日消息,3D晶体管正在各种类型芯片中铺开,3D DRAM内存也讨论了很多年,但一直没有落地。如今三星公开的路线图上,终于出现了3D DRAM。</p><p>三星的DRAM芯片制造工艺目前处于1b,后续还有1c、1d,都是10nm级别。</p><p><img data-reference="image" src="https://img-s-msn-com.akamaized.net/tenant/amp/entityid/BB1l3emg"></p><p>再往后的10nm以下节点,将分别命名为0a、0b、0c、0d,其中打头的0a工艺预计2027年底-2028年初量产(月产能超过2万块晶圆),0d则要到2032年。</p><p>就在进入10nm之后,
亿博三星将全面开启3D内存时代,首先引入VCT(垂直通道晶体管),看起来应该是基础的FinFET类型,而非更先进的GAA。</p><p>大约2030-2031年的时候,三星将升级到堆叠DRAM,将多组VCT堆在一起,从而获得更大容量、更高性能,看起来还会引入电容器作为辅助。</p><p><img data-reference="image" src="https://img-s-msn-com.akamaized.net/tenant/amp/entityid/BB1l3bUk"></p>: